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高導(dǎo)熱氮化鋁陶瓷基片的制備技術(shù)

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隨著大功率和超大規(guī)模集成電路的發(fā)展,集成電路和基片間的散熱性也越來越重要,因此,基片必須要具有高的導(dǎo)熱率和電阻率。氮化鋁具有高熱導(dǎo)率、高溫絕緣性和優(yōu)良的介電性能、良好的耐腐蝕性、與半導(dǎo)體Si相匹配的膨脹性能等優(yōu)點(diǎn),因此成為優(yōu)良的電子封裝散熱材料,是組裝大型集成電路所必需的高性能陶瓷基片材料。鈞杰陶瓷專業(yè)技術(shù)創(chuàng)新精神、誠信合作、持續(xù)發(fā)展的理念。為新客戶提供優(yōu)異的品質(zhì),完善的服務(wù),良好的信譽(yù),另外,本企業(yè)具有獨(dú)特的陶瓷件鏡拋光技術(shù),保證了我們的產(chǎn)品的亮度、色澤,光潔度等性能優(yōu)于同類產(chǎn)品,受到廣大客戶的一致好評。鈞杰陶瓷期待與大家一起合作。咨詢鈞杰陶瓷聯(lián)系電話:134 128 56568。
氮化鋁陶瓷加工

一、AlN陶瓷基片粉體制備
1、Al粉直接氮化法
Al粉直接氮化法原料來源廣、工藝過程簡單,能在較低溫度下反應(yīng),但此反應(yīng)屬于強(qiáng)放熱反應(yīng),反應(yīng)過程由于放出大量的熱量而不好控制,導(dǎo)致鋁粉轉(zhuǎn)化率低,產(chǎn)物易結(jié)塊,產(chǎn)品粒徑粗大,質(zhì)量穩(wěn)定性差,因此要小心控制工藝。

2、Al2O3碳熱還原法
碳熱還原法的優(yōu)點(diǎn)是原料來源廣、工藝過程簡單,合成的粉體純度高、粒徑小且分布均勻;其缺點(diǎn)在于合成時間較長、氮化溫度較高,而且反應(yīng)后還需對過量的碳進(jìn)行除碳處理,導(dǎo)致生產(chǎn)成本較高。

3、自蔓延高溫合成法
自蔓延高溫合成法的反應(yīng)速度很快,不需要外部加熱,成本低廉,但生產(chǎn)效率低,適應(yīng)于大批量工業(yè)化生產(chǎn)。反應(yīng)過程中升溫和冷卻的速度極快,易于形成高濃度缺陷和非平衡結(jié)構(gòu),粉末的晶形呈不規(guī)則狀,粒徑分布不均勻。

此外,氮化鋁粉體的制備方法還有高能球磨法、化學(xué)氣相沉積法、溶膠-凝膠法、等離子化學(xué)合成法、原位自反應(yīng)合成法、電弧熔煉法、微波合成法、溶劑熱合成法等。

氮化鋁陶瓷加工

二、AlN陶瓷基片的成型
1、流延成型
流延成型制備氮化鋁陶瓷基片的主要工藝,將氮化鋁粉料、燒結(jié)助劑、粘結(jié)劑、溶劑混合均勻制成漿料,通過流延制成坯片,采用組合模沖成標(biāo)準(zhǔn)片,然后用程控沖床沖成通孔,用絲網(wǎng)印刷印制金屬圖形,將每一個具有功能圖形的生坯片疊加,層壓成多層陶瓷生坯片,在氮?dú)庵屑s700℃排除粘結(jié)劑,然后在1800℃氮?dú)庵羞M(jìn)行共燒,電鍍后即形成多層氮化鋁陶瓷。

流延成型分為有機(jī)流延成型和水基流延成型兩種。流延成型法在AlN陶瓷基片方面的應(yīng)用具有極強(qiáng)的優(yōu)勢,如設(shè)備要求低,可連續(xù)生產(chǎn)、生產(chǎn)效率高、自動化程度高,其生產(chǎn)成本低廉,非常適合現(xiàn)代工業(yè)生產(chǎn)。

2、注射成型
首先將AlN粉體與有機(jī)粘結(jié)劑按一定比例混合,經(jīng)過造粒得到性能穩(wěn)定的喂料,然后在注射成型機(jī)上成型素坯,再經(jīng)過脫脂、燒結(jié)最終獲得AlN陶瓷基片。

3、流延等靜壓復(fù)合成型
傳統(tǒng)流延成型工藝所制備出的漿料固相體積含量較低,加上干燥階段中部分有機(jī)溶劑的揮發(fā),極易導(dǎo)致素坯中孔隙率的增加從而使坯體結(jié)構(gòu)疏松化,弱化后期燒結(jié)效果,難以制備出高致密度、高導(dǎo)熱AlN陶瓷基片。

流延等靜壓復(fù)合成型工藝是基于非水基和水基流延成型發(fā)展的一種新型陶瓷基片成型工藝,既保留了流延成型素坯的延展性,又在此基礎(chǔ)上采用等靜壓二次成型,彌補(bǔ)了前一成型過程留下的致密度低、結(jié)構(gòu)松散等缺陷。

三、AlN陶瓷基片的燒結(jié)工藝
燒結(jié)助劑及其添加方式
燒結(jié)助劑主要有兩方面的作用:一方面形成低熔點(diǎn)物相,實(shí)現(xiàn)液相燒結(jié),降低燒結(jié)溫度,促進(jìn)坯體致密化;另一方面,高熱導(dǎo)率是AlN基板的重要性能,而實(shí)際AlN基板中由于存在氧雜質(zhì)等各種缺陷,熱導(dǎo)率低于其理論值,加入燒結(jié)助劑可以與氧反應(yīng),使晶格完整化,進(jìn)而提高熱導(dǎo)率。

常用的燒結(jié)助劑主要是以堿土金屬和稀土元素的化合物為主,單元燒結(jié)助劑燒結(jié)能力往往很有限,通常要配合1800℃以上燒結(jié)溫度、較長燒結(jié)時間及較多含量的燒結(jié)助劑等條件。燒結(jié)過程中如果僅只采用一種燒結(jié)助劑,所需要的燒結(jié)溫度難以降低,生產(chǎn)成本較高。二元或多元燒結(jié)助劑各成分間相互促進(jìn),往往會得到更加明顯的燒結(jié)效果。

目前,助燒劑引入的方式一般有2種,一種是直接添加,另一種是以可溶性硝酸鹽形式制成前驅(qū)體原位生成燒結(jié)助劑。后者所生成的燒結(jié)助劑組元分布更為均勻,顆粒更為細(xì)小,比表面能更大。

1、燒結(jié)溫度
燒結(jié)溫度的提高有助于提高AlN陶瓷的熱導(dǎo)率及強(qiáng)度。王利英等在1500~1800℃范圍內(nèi)燒結(jié),發(fā)現(xiàn)溫度的升高有利于AlN陶瓷材料熱導(dǎo)率的增大,得到的AlN陶瓷熱導(dǎo)率從76.9W/(m·K)升高到了113.9W/(m·K)。

在燒結(jié)爐中,燒結(jié)溫度的均勻性深刻影響著AlN陶瓷。燒結(jié)溫度均勻性的研究也為大批量生產(chǎn)、降低生產(chǎn)成本提供了保障,有利于實(shí)現(xiàn)AlN陶瓷基片產(chǎn)品的商業(yè)化生產(chǎn)。

2、燒結(jié)方法
AlN陶瓷基片一般采用無壓燒結(jié),該燒結(jié)方法是一種最普通的燒結(jié),雖然工藝簡單、成本較低、可制備形狀復(fù)雜,但燒結(jié)溫度一般偏高,再不添加燒結(jié)助劑的情況下,一般無法制備高性能陶瓷基片。

傳統(tǒng)燒結(jié)方式一般通過外部熱源對AlN坯體進(jìn)行加熱,熱傳導(dǎo)不均且速度較慢,將影響燒結(jié)質(zhì)量。微波燒結(jié)通過坯體吸收微波能量從而進(jìn)行自身加熱,加熱過程是在整個材料內(nèi)部同時進(jìn)行,升溫速度快,溫度分散均勻,防止AlN陶瓷晶粒的過度生長。這種快速燒結(jié)技術(shù)能充分發(fā)揮亞微米級和納米級粉末的性能,具有很強(qiáng)的發(fā)展前景。

放電等離子燒結(jié)技術(shù)主要利用放電脈沖壓力、脈沖能和焦耳熱產(chǎn)生瞬間高溫場實(shí)現(xiàn)快速燒結(jié)。放電等離子燒結(jié)技術(shù)的主要特點(diǎn)是升溫速度快,燒結(jié)時間短,燒結(jié)溫度低,可實(shí)現(xiàn)AlN陶瓷的快速低溫?zé)Y(jié)。通過該燒結(jié)方法,燒結(jié)體的各個顆??深愃朴谖⒉Y(jié)那樣均勻地自身發(fā)熱以活化顆粒表面,可在短時間內(nèi)得到致密化、高熱導(dǎo)燒結(jié)體。

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